真空腔体

真空腔体是内部为真空状态的容器,很多先进的技术工艺均需要在真空或惰性气体保护条件下完成,真空腔体是这些工艺过程中重要的基础设备.

根据真空度国标真空被分为低真空（100000-100Pa）,中真空（100-0.1Pa）,高真空（0.1-10-5Pa）,超高真空（10-5-10Pa）。低真空主要应用于隔热及绝缘、金属熔炼脱气、无氧化加热、真空冷冻及干燥和低压风洞等;高真空主要应用于真空冶金、真空镀膜设备等领域;超高真空则偏向物理实验方向。为实现超高真空，要对腔体进行150～250℃的高温烘烤，以促使资料外表和内部的气体尽快放出。

影响真空绝缘水平的主要因素

电极资料

真空开关作业在10-2Pa以上的高真空，因为此刻气体分子十分稀疏，气体分子的碰撞游离对击穿已经不起效果，因而击穿电压表现出和电极资料有较强的相关性。

真空空隙的击穿电压跟着电极资料的不同而不同，研究者发现击穿电压和资料的硬度与机械强度有关。一般来说，硬度和机械强度较高的资料，往往有较高的绝缘强度。比如，钢电极在淬火后硬度进步，其击穿电压较淬火前可进步80%。

此外，击穿电压还和阴极资料的物理常数如熔点、比热和密度等正相关，即熔点较高的资料其击穿电压也较高。比照热和密度而言亦然。这一问题的实质是在相同热能的效果下，资料发作熔化的概率越大，则击穿电压越低。

真空腔体加工检漏的办法

一、真空封泥检测法

用真空泥封住的漏点，此时要注意观察真空度的改变，假如贴上真空泥之后真空度上升较快，拿掉之后又有了显着的下降，这说明就是一个漏点哦。然而，这个办法在实际检测顶用的比较少

二、真空计检漏法

部分真空计的读数与气体种类有关，例如电离真空计，热偶计。用合适的气体或许液体做示漏物质，这些真空计就成了探测器，一般镀膜机上都会有真空计，在实际使用中也是比较常用的检漏办法。热偶计的示漏物质有二氧化碳，丁烷，酒精等，热偶计的反响比较慢，要仔细观察。用于电离计的示漏物质主要有氦，，酒精等。影响真空绝缘水平的主要因素空隙间隔真空的击穿电压与空隙间隔有着比较清晰的关系。

半导体真空腔体制造技术 

真空腔体在薄膜涂层、微电子、光学器件和材料制造中，是一种能适应高真空环境的特殊容器。真空腔体通常包括一系列部品——如钟形罩、基板、传动轴以及辅助井——这些构成一个完整的真空腔体。

复杂的真空腔体通常需要定制，即针对应用终端进行专门的设计和制作。某些常见的真空腔体已经过预先设计，如手套箱、焊接室、脱气箱、表面分析真空腔等。例如脱气箱和手套箱一般采用低真空环境，可用于焊接，或用于塑料制品、复合材料层压板、封装组件等的脱气。由图可以看到真空度高于10-2Pa时，击穿电压基本上不再跟着气体压力的下降而增大，因为气体分子碰撞游离现象已不复兴效果。

真空设备包含很多组件，如真空腔体，真空密封传导件，视口设置，真空传感器，真空显示表，沉积系统，蒸发源和蒸发材料，溅镀靶材，等离子刻蚀设备，离子注入设备，真空炉，专用真空泵，法兰，阀门和管件等。真空设备常用于脱气，焊接，制备薄膜涂层，生产半导体/晶圆、光学器件以及特殊材料等。装载锁定室是建在主腔体上的小腔体，可在不破坏主腔体真空度的条件下，将样本、晶片或其他组件从外部大气环境移动到内部高真空环境中。